Abstract:
Bu çalışmada Si plakanın HF-HNO3 karışım buharına tutulması ile sentezlenen Amonyum Silikon Florür, ASF, {(NH4)2SiF6} yapıların oluşum mekanizmalarına ilişkin literatürde önerilen iki mekanizmadan yalnızca bir tanesinin geçerliliği, Winkler yöntemi ile tepkime ürünü olarak oksijen çıkışı olup olmadığına bakılarak sınanmıştır.ASF filmlerin etkin fotolüminesans (FL) sergilemesi üzerine, sıcaklığa bağlı FL özelliği incelenmiş ve 2-2.2 eV dolaylarında ışıma yaptığı gözlenmiştir. Uyarıcı lazerin ASF filmlerin FL özelliğini etkilediği görülmüştür. Si plakanın asit karışım buharıyla etkileşim zamanı değiştirilerek oluşturulan örneklerin FL özellikleri karşılaştırılmıştır. Belirli sürelerle lazer ışığı etkisine bırakılan ASF filmlerin FTIR ölçümlerine göre, lazerin kimyasal değişikliğe neden olmadığı anlaşılmıştır. Değişik etkileşim sürelerinde oluşturulan ASF filmlerin elektron mikroskobu incelemeleri ile ASF yapıların parçacık boyutunun ~0.5?m ile 2?m arasında değiştiği gözlenmiştir.
